光反应装置主体由反应器、光源、防爆柜(含可调电源)、固定框架等组合而成。构建光照条件下的流动式反应器,并结合外围配套设备可实现光合成连续化反应的应用。该系统可用于医药分子合成、有机合成等各类光化学反应的中试或小批量的生产使用,电气的防爆设计满足防爆车间内使用的需求。
装置特点:
- ● 毫米级反应通道,百毫升持液量
- ● 平面式螺旋盘绕,多层交错排布
- ● 高透光率,双面受光辐照
- ● 多波长LED可选,光源功率可调
- ● 百级辐照功率,高辐照均一性
- ● 光源水冷散热,高稳定性长寿命
- ● 一体化防爆控制柜,带可视窗口
技术参数:
技术参数 | |||
反应系统 | 反应器 | ||
散热需求 | 水冷,≤15℃,15 L/min | 反应管 | 1/4 in × 1 mm(外径 × 壁厚),FEP(可做其它毫米级管径) |
外形尺寸 | 1300 × 900 × 1100 mm | 持液量 | 约400 mL,双层交错盘绕(可做其它持液量) |
重量 | 250 kg | 使用范围 | 0 ~ 1 MPa,-20 ~ 100℃ |
反应器尺寸 | 约Ф480 × 30mm,铝合金,石英光窗 | ||
防爆控制柜 | 光源 | ||
防爆等级 | Exd Ⅱ BT4,水冷散热 | 波长 | 450 nm/420 nm,兼容其它波长(255 ~ 760 nm) |
总供电 | 220V AC/16A,最大3 kW | 功率 | 1 kW(额定电功率,10 ~ 100%);(可做其它功率,极限4 kW) |
电源输出 | 电流电压自适应,额定2台 × 1kW | 光源尺寸 | 约Ф520 × 30 mm,铝合金,水冷散热 |
装置流程图: